本公司的PECVD系統(tǒng)進(jìn)入東南大學(xué)，現(xiàn)安裝調(diào)試中

PECVD系統(tǒng)，它由管式爐，石英真空室、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。主要使用于:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復(fù)合薄膜，石墨烯等生長。增加功能容易，可擴(kuò)展等離子清洗刻蝕等功能。該P(yáng)ECVD系統(tǒng)具有： 薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。